Lam Rainbow 4520 等离子刻蚀机概述：
Lam Rainbow 4520刻蚀机是全自动，单片等离子/反应离子刻蚀系统，适用6”或8”晶片，主要特点：上下电极驱动板，可调节电极间距，非接触式全自动调整晶片位置。独特的射频匹配网络位于上下电极，可编程调节等离子和反应离子刻蚀两种模式。通过电脑控制，可调手动或自动模式。

Lam Rainbow 4520等离子刻蚀机典型工艺应用：

Lam Rainbow 4520等离子刻蚀机标准配置：
·         晶圆尺寸: 4″/5″/6″/8″
·         配有前键盘面板的操作界面，CRT显示器，系统电脑通过控制主板控制
·         传片系统由送片仓、晶片传动带、边缘探测器、升降旋转器、Load Lock入口、4-pin升降台、Load Lock 出口以及收片仓组成
·         工艺腔体由上电极、下电极、电极间距调节系统(电极间距范围：0.5cm-8.5cm)，蝶阀及其“AC-2”控制器组成
·         配有8路MFC控制气路
·         ENI 650或相同功率的射频源，13.56MHz，20-650W
·         两套RT匹配系统用来上下电极切换
·         温度控制模块用来上下电极不同温度控制
·         N₂气动系统用来打开气缸、阀门以及真空发生器

Lam Rainbow 4520等离子刻蚀机动力条件：
·         动力电：刻蚀机，208V 50/60Hz, 三相五线制，三角形接法，最大电流30A，一般23A；
            R.F.Cart，208V 50/60Hz, 三相五线制，三角形接法，最大电流30A，一般23A；
 温度控制模块，208V 50/60Hz, 三相五线制，三角形接法，最大电流30A，一般23A；
·         尺寸和重量：刻蚀机（44″宽x 54″深x 66″高, 1700 lbs）；
                R.F.Card（22″宽x 32″深 x 44″高, 250 lbs）；
温度控制模块（23″宽x 37″深x 55″高, 420 lbs）
·         排风：刻蚀机，机柜（300 CFM, 0.5 H2O, 4″排风口）
  气柜（75 SFM, 0.5 H2O，2″排风口）
·         冷却水：R.F.Card（2±0.2 GPM，85±5 PSI，14-35℃，3/8″内经接头，过滤器小于200微米）
温度控制模块（6±0.5 GPM，11-26℃，1/2″内经接头，过滤器小于200微米）
·         氮气（或CDA）：40±10PSI，90±10PSI
·         输出热量：刻蚀机（3.4K水冷却，3.4K排风排出，7K散到环境中）；
              R.F.Card（7K水冷却，7K排风排出，7K散到环境中）；
温度控制模块（4K水冷却，1K散到环境中）
·         工艺气体：1/4″VCR接头，小于0.05微米的过滤器